Chemraz® G57
Semiconductor
Detalles del producto
Aumente el tiempo de actividad y el rendimiento del procesamiento
¿Necesita juntas de procesamiento de obleas diseñadas a medida que satisfagan las exigencias de los agresivos sistemas de plasma seco? La formulación exclusiva de Chemraz® G57 proporciona una mayor resistencia al plasma y minimiza la contaminación, lo que se traduce en menos tiempo de inactividad y mayores rendimientos en el procesamiento de obleas, tanto en aplicaciones estáticas como dinámicas.
Chemraz® G57 es un compuesto FFKM con capacidad para altas temperaturas y excelente compatibilidad con plasma de O2, que presenta una excelente resistencia química y una temperatura máxima de funcionamiento de hasta 300°C (572°F).
Características y beneficios
- Excelente resistencia al plasma en diversos entornos químicos agresivos
- Altas temperaturas de servicio de hasta 300°C / 572°F
- Partículas mínimas
- Menor dureza para facilitar la instalación
- Menor adherencia para aplicaciones dinámicas
- Disponible como junta tórica, CX personalizados y placas, sin restricciones de disponibilidad.
- Capacidad de fabricación mundial
Industrias y aplicaciones
Un elastómero de alto rendimiento diseñado para aplicaciones exigentes
Los productos Chemraz® G57 están diseñados para una amplia gama de aplicaciones. No importa lo exigente que sea el entorno, nuestro equipo trabaja con usted para determinar la solución adecuada para el trabajo.
Aplicaciones de ejemplo:
- Ventanas de punto final
- Sellos
- Grabado por plasma Dy
- Depósito
- Limpieza remota de plasma
- Ceniza seca
- Oxidación
- Difusión
- Metalización
Rendimiento fiable
Chemraz® G57 es una solución de componentes de ingeniería probada y fiable. Está disponible en forma de juntas tóricas, CX personalizados y placas.
Mayor resistencia al plasma
