產品詳情
增加正常運行時間和處理產量
您是否需要定製設計的晶圓加工密封件,以滿足腐蝕性幹式等離子切割系統的需求?Chemraz® G57的獨特配方可提高等離子體電阻並最大限度地減少污染,從而減少停機時間並提高靜態和動態應用中的晶圓加工產量。
Chemraz® G57 是一種 FFKM 化合物,具有高溫能力和出色的 O2 等離子體相容性,具有出色的耐化學性和最高工作溫度至 572°F (300°C)。
特色及優勢
- 在各種腐蝕性化學環境中具有出色的抗等離子體性
- 高達 572°F / 300°C 的高工作溫度
- 最小分切
- 硬度較低,易於安裝
- 較低的粘附性能,適用於動態應用
- 提供 O 形圈、定製 CX 和板坯 – 可用性無限制
- 全球製造能力
產業與應用
專為苛刻應用而設計的高性能彈性體
Chemraz® G57 產品設計用於廣泛的應用。無論環境多麼苛刻,我們的團隊都會與您一起確定適合工作的正確解決方案。
應用包括:
- 終結點視窗
- 密封件
- 等離子刻蝕
- 口供
- 遠端等離子清洗
- 乾灰
- 氧化
- 擴散
- 金屬化
可靠的性能
Chemraz® G57 是一種經過驗證的可靠工程元件解決方案。它以 O 形圈、定製 CX 和板坯的形式提供。