ケムラズ® G57
半導体
半導体用汎用エラストマー
製品詳細情報
アップタイムと処理歩留まりの向上
アグレッシブなドライプラズマシステムの要求を満たすカスタム設計のウェーハプロセッシングシールが必要ですか？Chemraz® G57のユニークな配合により、耐プラズマ性が向上し、コンタミネーションが最小限に抑えられるため、静的および動的アプリケーションの両方において、ダウンタイムが短縮され、ウェーハプロセスの歩留まりが向上します。
Chemraz® G57は、高温性能と優れたO2プラズマ適合性を持つFFKMコンパウンドで、優れた耐薬品性と300°C（572°F）までの最高温度動作を誇ります。
特徴と利点
- 様々なアグレッシブな化学環境における優れた耐プラズマ性
- 最高使用温度572°F / 300°C
- 微粒子化
- 低硬度で取り付けが容易
- 動的用途のための低粘着性
- Oリング、カスタムCX、スラブとして入手可能 - 入荷制限なし
- グローバルな生産能力
業種および用途
要求の厳しい用途向けに設計された高性能エラストマー
Chemraz® G57 製品は、幅広い用途に使用できるように設計されています。どのような厳しい環境であっても、当社のチームはお客様と協力して、作業に適したソリューションを決定します。
次のような用途に対応します。
- エンドポイントウィンドウ
- シール
- ダイプラズマエッチング
- 蒸着
- リモートプラズマ洗浄
- 乾燥灰化
- 酸化
- 拡散
- 金属化
信頼できる性能
Chemraz® G57は、実績のある信頼性の高いエンジニアードコンポーネントソリューションです。Oリング、カスタムCX、スラブの形で入手可能です。
耐プラズマ性の向上
